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目前全世界的单晶炉，还停留在无热屏时代，也就是说，中国的晶圆厂跟海外有差距，但是，单晶炉的技术差距实际上并不是天差地远，仅是材料工艺方面存在一定差距，但国内半导体产业大部分的单晶炉还是国产为主。
而后来的热屏障时代，国内很长一段时间被海外厂商蒙蔽，在海外晶圆厂已经用上了热屏障单晶炉时，海外的供应商高价格出售给中国的设备，长期都是没有热屏障的传统单晶炉。导致国内很长一段时间内，根本就不知道有这种设备。结果，在跟海外巨头竞争中，无论是工艺还是成本，都败的一塌糊涂。
等到国内半导体产业指导了单晶炉热屏这个微小的创新之后，国内的晶圆厂的规模和技术跟海外厂商的代价已经拉的更大了。
单晶炉热屏障技术影响有多么深远呢？业界把单晶炉工艺分为无热屏时代和热屏单晶炉时代。
简单说，有热屏障技术之后，不仅仅是降低热量损失，从而达到节能降低成本的效果，而且，还可以让晶圆的直径更大，生产出更高品质的单晶硅棒。
对于晶圆厂而言，晶圆的直径当然是越大越好，直径尺寸越大的晶圆，能切割加工出来的晶体管数量越多，芯片的产能和良品率也会获得极大的提升。
简单说，光刻机的研发，即使有钱清楚方向，也需要比较长的周期。所以，蒙欣准备先搞一个比较容易出成果，对于国内半导体产业促进也比较大的项目。
这个容易出成果的项目，树立了团队的信心之后，再去啃那些更难，需要更长研发周期的硬骨头。
这个单晶炉技术的突破，虽然不能立即让国内的班的半导体工艺技术达到国际先进水平，但也会极大的降低国内半导体生产的成本和效率。
第351章 简单粗暴的技术突破（）
热屏技术听起来是一门高大上的新技术，实际上，仅是在单晶炉内部增加一块挡板，在炉内热量向上流失过程中，靠着这块挡板将热量反射回炉内。
类比保温瓶——想要更好保温效果，自然是要避免瓶内的热量流失，需要有更好的密封性，比如，瓶口加更厚的硅胶虽然，单晶炉跟保温杯的相差十万八千里，但是，归根结底，热屏技术就是一项增强炉内保温性能的技术。
历史上，这项技术应用初期，美国的英特尔等等领先的半导体公司悄然采用了热屏技术之后，却是秘而不宣，悄悄的利用这种技术降低成本和增加产能。等到越来越多的厂商，心照不宣的采用这种技术之后，之后，英特尔等等公司才注册了热屏专利。
这项技术注册专利之后，使得热屏技术的扩散突然加快，因为，更多厂商知道了这个概念之后，先后都投入了资本研发相关的技术。
中国的半导体行业虽然被误导了多年，但在2001年，北京有色金属研究总院的研究人员屠海令、周旗钢所率先的团队在没有热屏样品作为参照的前提下也成功的研发了国产的固定式热屏。
实际上，美国英特尔等等公司虽然注册了热屏技术的初始专利，但丝毫不能阻止竞争对手纷纷采用类似的技术。
因为，这门技术实际上仅是一个创意，别人没想到之前，是一个了不起创意，但等到这个创意被业界知道，仅需要知道热屏这个名词，就可以研发出类似的技术，最多是绕开已有的专利，需要费点事。
而且，即使百分之百抄袭，也很难被发现。毕竟，这种技术是厂商生产所用的技术，只要做好保密工作，阻止外界人士参看和取证，那么，谁也不会知道其内部的生产设备，抄袭了别人的技术专利。
相对而言，专利保护法更容易受到保护是消费产品的相关专利，侵犯了专利的友商产品除非不上市，一旦上市，其专利侵权的部分肯定会被发现。
这项技术非常简单，但是意义却是非凡了。仅以能耗为例，6英寸装料量60公斤的单晶炉为例平均能耗在120kh，而采用了最原始的固定式热屏技术，单晶炉的能耗轻易的降低到90kh。而且，采用了热屏的单晶炉，还能显著提升单晶的生长速度，单晶的直径尺寸和良品率也大幅度的提升。
而后来固定式热屏技术的基础上，还出现了更先进的移动热屏，该技术直接把能耗进一步降低，原本能耗120kh的单晶炉，能耗进一步降低到了60kh！
后世的半导体行业爆产能，热屏技术也做出了突出的贡献。后世的电子产品的消费者，实际上，也是单晶炉热屏技术的受益者。
1986年7月，蒙欣率领下单晶炉热屏技术，迅速从理论变成实际的产品。
这项成果本质上并不是太难，成本也不是很高。在成本大概5000多块钱的国产单晶炉里面，增加一个固定的组合件。大致上，仅需要不到1万元成本就可以将一台单晶炉改造成有固定热屏的新式单晶炉。
而目前进口的单晶炉，成本不低于1万美元一台，比国产的单晶炉更贵情况下，性能远远不如这种新式带热屏的单晶炉。
这种一万美元一台的设备，实际上顶多用35次就报废，需要更换新的单晶炉。当然了，国外有寿命更长的单晶炉，能用十次左右，但却是禁止对中国出口的。几十年后单晶炉寿命则是轻易的达到上百炉甚至更长久的寿命。当然了，配合热屏技术的话，晶圆生产的成本和效率，将达到80年代的半导体厂商难以想象的程度。
当然了，使用寿命更长的单晶炉，这则涉及到更复杂的材料学，并不是简单的弄出一份设计图纸就能搞出来。
“这个技术很厉害？”林棋毕竟不是理工狗，所以只知道cpu、显卡、内存、硬盘、显示面板等等普通消费者看见的摸得着的东西。
还有就是最复杂的光刻机，由于芯片加工都需要光刻机，光刻机也是晶圆加工工业中，最昂贵的设备。集成电路能集成多少晶体管，主要取决于光刻机的精度。所以，即使是小白，都知道光刻机非常关键！
相对于高大上的光刻机而言，单晶炉就显得很土鳖，很少有外行人关注单晶炉技术的发展。
“当然厉害了！决定芯片性能和产能的，不仅仅是光刻机，晶圆的产能和质量，也是非常关键和重要的技术。”蒙欣微笑说道，“仅凭着这项技术，至少可以给你的芯片节省30％的成本！品质更高的晶圆，也会让芯片加工的良品率更高、性能更好！其实短期内，光刻机的技术没取得突破，仅凭着单晶炉的技术突破，就足以让芯片产能、性能、成本等等指标，都获得大幅度的提升！”
“这么厉害！”林棋不仅感觉到惊讶。
“当然！换做是听你的，头疼医头，脚痛医脚，即使我现在就帮你改进光刻机技术，保守估计也需要一年以上时间，才能有成效。”蒙欣说道，“而且，我现在去给你研发21。5微米的光刻机，属于严重浪费宝贵的科研资源。跟在国际厂商后面模仿，你们现在的团队就可以了。我的团队，直接从1微米起步，研发投影式光刻机！我参观了新创业半导体和骊山半导体的工厂，都是接近式光刻机，70年代的技术，现在是主流。但是技术升级潜力有限，所以，很快就会被投影曝光式光刻机所替代！”
林棋点了点头，知道技术上蒙欣比自己强无数倍。
有未来技术资料作为参考的蒙欣，可能是世界上最厉害的技术大牛。
业内人士刚有一个初步的想法，她已经清晰的了解未来的技术发展趋势，很多现在是机密的技术，在未来已经是能公开的资料。
7月份，林棋强行的推广之下，新创业半导体公司开始正式大规模的推广热屏单晶炉。
虽然，一开始有些技术人员比较固执，觉得贸然采用一种从来没听过的技术有点冒险。
但是仅仅过了一周之后，反对声彻底消失了。
谁反对，生产线上的一线技术人员会敲爆他们的狗头！
因为，热屏技术的好处，那是立竿见影的！
采用了热屏技术的单晶炉，不仅仅节约25％的电费，而且，单晶棒的直径、长度都远远超过预期。原本用来实验的是4英寸的单晶炉，这种单晶炉生产出来的晶圆直径应该在101。6毫米，但实际上，生产出来的晶圆直径居然达到117毫米，虽然没达到6英寸，但也算是4。5英寸级！
晶圆直接更大，不仅仅是原材料产能增加的问题，更关键的是，相对于4英寸的晶圆而言，更大直